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市场主要磁悬浮分子泵生产商包括真空、Atlas(Edwards&Leybold)、大阪真空机器制造所、和等，按收入计，2021年大厂商占有大约%的市场份额。从产品泵速方面来看，低于1500升/秒占有重要地位，按收入计，2021年市场份额为%，预计2028年份额将达到%。同时就应用来看，半导体行业在2028年份额大约是%，未来几年CAGR大约为%。

根据不同产品泵速,磁悬浮分子泵细分为:

 低于1500升/秒

1500到3000升/秒

 高于3000升/秒

根据不同应用，本文重点关注以下领域：

 半导体行业

 光伏行业

 镀膜行业

 其他

涡轮分子泵的工作特性主要表现在以下几个方面：

（1）抽速与转速的关系抽速与转速之间的关系大致为S（4-67）。其中：g是由几何形状决定的常数；u是活动刀片的转速。随着速度的增加，泵送速度比直线略慢。这可以通过在抽速较高时对进气管电导率的限制来解释。根据（4-66），随着S1的增加，S将偏离直线。

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视频作者：广州潽拓光电科技有限公司

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鉴定充分肯定了公司的技术研发、制造工艺以及检测能力，公司在科技部02专项“极大规模集成电路制造装备及成套工艺”——《磁悬浮分子泵系列产品开发与产业化》重大专项研制成果基础上，成功研制新一代智能化、一体化的磁悬浮分子泵。经过质询和讨论，鉴定很终鉴定意见为：公司研制的磁悬浮分子泵系列产品为国内首台（套），具有自主知识产权，主要性能指标达到水平，取得了显著的经济及社会效益，建议进一步推广应用。

作为中国真空技术者，公司始终以“创新科学仪器，发展企业”为使命，以电子光学和真空技术，打造科学仪器设备及装备制造国家队，在“十四五”规划的新征程，立足新发展阶段、坚持新发展理念、构建新发展格局，为强化国家战略科技力量、实现科技自立自强做出新的贡献。

操作注意事项不能在前级泵工作时（前级管道接通）和真空室处于真空状态时将涡轮分子泵停掉，否则将会使油蒸汽迅速从前级管路返流到泵的清洁端。分子泵系统在停机充干燥气体前，一定要先将分子泵冷却水关闭，且要从泵的高真空端充气。决不能从泵的前级管路进行充气。选择抽气系统前级泵的大小时，应使涡轮分子泵的前级保持在分子流状态下。不能让涡轮分子泵在低于额定工作转速下运转。

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通用的沉积技术有化学气相淀积（CVD）、蒸发和溅射PVD。一般来说，其中还要夹杂低温（≤500℃）退火工艺等热处理工艺，用以增进金属层和半导体之间的低电阻接触、消除内应力等。设备运行过程中需要高洁净的真空环境，一般采用以磁悬浮分子泵为主的无油真空系统。

刻蚀是用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要材料的过程。刻蚀的基本目标是在涂胶的硅片上正确地掩膜图形。现代化的干法刻蚀设备包括复杂的机械、电气和真空系统，同时配有自动化的刻蚀终点检测和控制装置。刻蚀应用工况复杂，清洁性差，充入特种气体种类繁多，因此需要特殊处理的干泵和磁悬浮分子泵。

离子注入设备：离子注入是指在真空环境下，当离子束射向固体材料时，受到固体材料的抵抗而速度慢慢减低下来，并很终停留在固体材料中的现象。离子注入是半导体表面附近区域进行掺杂的主要技术，其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型。离子注入机是集成电路制造工序中的关键设备，需要高清洁的真空环境，以保证离子掺杂浓度和剂量的准确性。

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