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涡轮分子泵的工作特性主要表现在以下几个方面：压缩比与前一阶段压力之间的关系泵选择机械泵作为前级泵。当当前级压力满足一定要求时，分子泵稳定工作，减压比保持恒定。如图464所示，当当前级压力升至1Pa时，子压缩比开始降低，而当当前级压力升至数十帕斯卡时，压缩比急剧下降，分子泵无法正常工作。

抽速与气体类型之间的关系。所示的关系是，该变化比直线稍慢。这是因为，在旋转速度下，P较大的气体具有较大的速度比，因此叶片的Hoe系数较大，但是它们在进气管中的电导率是由于增加和减少。涡轮分子泵是利用高速旋转的动叶轮将动量传给气体分子，使气体产生定向流动而抽气的真空泵。

涡轮分子泵的优点是启动快，能抗各种射线的照射，耐大气冲击，无气体存储和解吸效应，无油蒸气污染或污染很少，能获得清洁的超高真空。涡轮分子泵广泛用于高能、可控热核反应装置、重粒子以及真空镀膜等需要获得高真空度制造工艺中。

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视频作者：广州潽拓光电科技有限公司

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实验与分析氦质谱检漏仪工作在不同的分子泵转速下，在仪器的检漏口连接标漏信号，检测氦质谱检漏仪在不同分子泵转速下，所获得的信号值。

实验器材：

(1)氦质谱检漏仪SFJ-231,1台；

(2)渗氦型标准漏孔（3.0×10-10Pa.m3/s),1只；

(3)渗氦型标准漏孔（1.5×10-Pa.m/s),1只；

(4)标准漏孔TL4-6,1只。

实验步骤：

(1)开启氦质谱检漏仪；

(2)仪器进入检漏状态运行2h后；

(3)仪器按下停止键，仪器进入待机状态(4)进入仪器的参数设置，将分子泵的转速设定为1500Hz；

(5)待仪器进入待机状态

(6)将渗氦型标准漏孔(3.0×100Pa.mYs)连接在检漏口；

(7)检漏仪按开始键，检测仪器的显示值，并记录；

(8)仪器按下停止键后按下开始键，再次检测仪器的显示值，共记录3次数据(9)仪器在待机状态，进入仪器的参数设置，将分子泵的转速设定为1000Hz；

(10)重复7、8步骤；

(11)进入仪器的参数设置，将分子泵的转速设定为1500Hz；

(12)在仪器检漏口连接渗氦型标准漏孔(1.5X10*Pa.ms)1只；

(13)重复7、8、9、10步骤(14)进入仪器的参数设置，将分子泵的转速设定为1500Hz；

(15)在仪器检漏口连接标准漏孔TL4-6(16)重复7、8、9、10步骤。

(16)重复7、8、9、10步骤。

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半导体产业链IC制造行业属于典型的技术密集型行业，产品技术含量非常高，同时对配套产业要求较高，其中就包括真空设备配套产业。真空设备（真空阀、真空泵、真空腔体及管道等）是半导体各工艺制程环节必备的通用设备，广泛应用于芯片生产制造过程。  半导体制造设备及工艺流程半导体器件的生产制造工艺极其复杂，需要在高纯度硅片上执行一系列精密的物理或者化学操作，例如掺入相应的其它元素、形成多种金属薄膜和绝缘膜、进行表面的刻蚀处理等。

这些复杂的生产制造工艺都需要在分子泵维持的高真空环境下进行，而且对真空系统和真空设备的洁净度也有着很高的要求。分子泵在半导体设备中的应用.在半导体生产制造工艺中，分子泵广泛应用于光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀设备、离子注入机等关键设备。光刻机光刻机是生产大规模集成电路的设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握，因此光刻机价格昂贵。

光刻机光刻过程必须在高真空环境中实现，原因是极紫外光很娇贵，在空气中容易损耗。同时，在光刻过程中，设备的动作时间误差以皮秒计，这对磁悬浮分子泵的振动值要求极高。（注：皮秒=兆分之一秒）薄膜沉积指在晶圆表面生成多种薄膜，这些薄膜可以是绝缘体、半导体或导体。它们由不同的材料组成，是使用多种工艺生长或沉积的。

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