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分子泵常见的故障问题：

1、分子泵为何会发生半边热，半边冷的现象？

2、分子泵使用中发现油发黑，请问油为什么会发黑？或者多长时间油才会变黑？

3、分子泵在运转过程中，出现频率从正常下降至一定频率后又恢复到正常，之后又下降至一定频率，再恢复到正常，反反复复，更换电源后现象仍如此，请问该现象如何解释？

4、分子泵轴承为什么会烧毁

5、有防护网保护，为什么还会有大块碎玻璃掉入泵内？

6、真空度很好的情况下，分子泵油为何会返到前级管道？

7、正常使用下，为什么分子泵油池会出现裂纹或者变形？

8、分子泵中经常掉出顶丝、镙钉等物体，如M5的顶丝等，请问是否对分子泵的使用有影响？应如何解决？

9、胶圈口分子泵要用多少卡钳，怎么使用才安全？

10、变频器电源在什么情况下会造成程序丢失或者错乱？

11、分子泵噪音大如何界定？是否有合格标准，是多少？

12、分子泵是否对冷却有明确要求？如果风冷需要外界温度是多少？如水冷则对水有何具体要求？如未达到要求会出现什么后果？

13、分子泵电源存在接地、屏蔽等问题，应如何做才是很佳方式？

14、变频器电源，转速上升过程中就自动关机，即显示“Poff”？

15、分子泵叶片破碎的原因？    

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视频作者：广州潽拓光电科技有限公司

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用于氦质谱检漏仪的分子泵的多为抽速60L/s左右的小型泵,对氦气的压缩比在1000左右。分子泵的抽速与动叶轮的转速有关，只有动叶轮的切向速度与气体分子的热运动速度相当时才有抽气能力,且抽速随转速而增,所以抽速在50~150L/s之间的小型分子泵的转速通常达到90000~40000转/分。分子泵的另一性能指标是,压缩比，所谓压缩比是指分子泵的排气口压力与进气口压力之比,压缩比于转速及分子量的关系是:

Kcxexp[GXu(M)17]式中:G为与叶轮几何形状有关的常数;U为叶轮转速;M为气体的分子量。可见分子量大的气体压缩比大。氦质谱检漏仪中,逆扩散检漏正是利用分子泵对小分子量氦气的低压缩比，而且，还通过降低叶轮转速，降低对He的压缩比,从而提高对氦气的响应灵敏度。

改变氦质谱检漏仪的分子泵的转速,分子泵的压缩比会发生变化,分子泵的转速由1500Hz改变为1000Hz,分子泵的压缩比会变小，进入质谱室的氦分压增加，检漏仪检测到氦信号会变大，试验中,检漏仪在1000Hz下的信号是1500Hz信号的3.5倍，也就是说分子泵在1500Hz的压缩比;是1000Hz的3.5倍。

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通用的沉积技术有化学气相淀积（CVD）、蒸发和溅射PVD。一般来说，其中还要夹杂低温（≤500℃）退火工艺等热处理工艺，用以增进金属层和半导体之间的低电阻接触、消除内应力等。设备运行过程中需要高洁净的真空环境，一般采用以磁悬浮分子泵为主的无油真空系统。

刻蚀是用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要材料的过程。刻蚀的基本目标是在涂胶的硅片上正确地掩膜图形。现代化的干法刻蚀设备包括复杂的机械、电气和真空系统，同时配有自动化的刻蚀终点检测和控制装置。刻蚀应用工况复杂，清洁性差，充入特种气体种类繁多，因此需要特殊处理的干泵和磁悬浮分子泵。

离子注入设备：离子注入是指在真空环境下，当离子束射向固体材料时，受到固体材料的抵抗而速度慢慢减低下来，并很终停留在固体材料中的现象。离子注入是半导体表面附近区域进行掺杂的主要技术，其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型。离子注入机是集成电路制造工序中的关键设备，需要高清洁的真空环境，以保证离子掺杂浓度和剂量的准确性。

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