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“该系列涡轮分子泵具有理想的尺寸功率比。350和450是300至700l/s吸力级别中结构紧凑的大功率涡轮分子泵，针对小分子气体具有的抽吸能力。”真空涡轮分子泵产品经理说道。内置的驱动电子设备在不增加体积尺寸的情况下，提供了包括ProfiNet和EtherCat在内的大量通讯接口。通过遥控和传感器元件可以对泵数据进行分析，实现在运行过程中进行理想的工艺监控。

它的运行噪音低，气体流量大，为真空行业树立了新的标准。该系列的各款泵均已获得SemiS2、UL、CSA和Nema12认证。此外，该系列各款泵均可以在客户现场进行轴承维护和轴承更换，并且均可免维护运行4年。磁场环境对分子泵运行的影响:许多设备在工作时都会产生磁场，比如，家用电冰箱的磁场强度约有10高斯（1mT），MRI（）的磁场强度甚至会高达3T；

尽管可以采取屏蔽等措施，仍然可能会有外漏的杂散磁场，对工作在附近的分子泵产生不好的影响。磁场对涡轮分子泵的可能影响当涡轮分子泵的转子在磁场中旋转时，会产生涡流。这些电流倾向于阻碍转子的旋转，并导致电机的功率增大。由于泵转子不与定子接触，涡生的热量和额外的功率主要通过辐射消散。因此，转子可能会过热，即使泵体及其它静止的部件仍然是冷的。

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视频作者：广州潽拓光电科技有限公司

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半导体产业链IC制造行业属于典型的技术密集型行业，产品技术含量非常高，同时对配套产业要求较高，其中就包括真空设备配套产业。真空设备（真空阀、真空泵、真空腔体及管道等）是半导体各工艺制程环节必备的通用设备，广泛应用于芯片生产制造过程。  半导体制造设备及工艺流程半导体器件的生产制造工艺极其复杂，需要在高纯度硅片上执行一系列精密的物理或者化学操作，例如掺入相应的其它元素、形成多种金属薄膜和绝缘膜、进行表面的刻蚀处理等。

这些复杂的生产制造工艺都需要在分子泵维持的高真空环境下进行，而且对真空系统和真空设备的洁净度也有着很高的要求。分子泵在半导体设备中的应用.在半导体生产制造工艺中，分子泵广泛应用于光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀设备、离子注入机等关键设备。光刻机光刻机是生产大规模集成电路的设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握，因此光刻机价格昂贵。

光刻机光刻过程必须在高真空环境中实现，原因是极紫外光很娇贵，在空气中容易损耗。同时，在光刻过程中，设备的动作时间误差以皮秒计，这对磁悬浮分子泵的振动值要求极高。（注：皮秒=兆分之一秒）薄膜沉积指在晶圆表面生成多种薄膜，这些薄膜可以是绝缘体、半导体或导体。它们由不同的材料组成，是使用多种工艺生长或沉积的。

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分子泵转速对氦质谱检漏仪的灵敏度有什么影响？

今天，小编将向大家介绍分子泵转速对氦质谱检漏仪的灵敏度有什么影响，希望对大家有所帮助。分子泵是利用高速旋转的转子把动量传输给气体分子,使之获得定向速度,从而被压缩、被驱向排气口后为前级抽走的一种泵。分子泵是获得高和超高的关键设备之一。

它被广泛应用于电子工业、表面工程、核能工业、等离子体技术、薄膜工程等工业领域和研究部门。它操作简单、启动时间短,在分子流区域内对各种气体的有效抽速几乎不变,对分子量高的气体压缩比高,可以获得清洁无油的高和超高环境。

分子泵是氦质谱检漏仪中获得高重要部位,是氦质谱检漏仪中不可或缺关键部件,分子泵性能直接影响检漏仪性能参数的好坏,分子泵的发展直接影响着氦质谱检漏技术。逆扩散型的检漏仪的检漏口是连接到高泵与低泵之间,所以被检试件的可检漏压力就是高真泵的前级耐压。如果试件压力超过这个压力,将使高泵不能正常工作。普通涡轮分子泵的前级耐压,一般不超过50Pa,远达不到高压检漏的要求。

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