广州潽拓光电科技有限公司--ULVAC爱发科分子泵维修;
ARPES光束线客户案例:某光源ARPES光束线真空系统,真空系统是同步辐射光束线的重要组成部分,只有在真空环境中运行,光学元件才能够将同步辐射光传输到试验站,真空系统的作用就是获得并维持合理的真空度,保证光束线的稳定运行.此系统搭配爱发科分子泵80,及配套真空规.
真空系统要求(分子泵):
1.静态真空(无束流):5x10-8Pa,动态真空(有束流):
2.真空系统基本配置:离子泵+无油分子泵+冷阴极真空规管+气体分析仪超高真空系统配置:
涡轮分子泵
接口:DN100CF-F
极限真空:氮气压缩比:>1X1011涡轮分子泵80
接口:DN63CF-F
极限真空:氮气压缩比:>1X1011残余气体分析仪PrismaPro
质量数:1-300amu
四极杆直径/长度:6/125mm
很大工作压力FhPa:5X10-4
涡轮分子泵抽速范围10至2700L/S,转速很高90,000rpm,极限真空很大1E-11mbar,对小分子气体具有更高的压缩比,实践证明涡轮分子泵运行时间可以达到100,000小时!分子泵提供复合轴承分子泵和五轴全磁浮分子泵二大系列满足不同应用,推荐搭配旋片泵和干泵共同使用.更多分子泵典型应用>>
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为了确认磁场对分子泵工作的影响,德国卡尔斯鲁厄理工学院()设计并执行了下面的测试:测试条件和装置被测分子泵的型号为TwisTorr304FSCFF6,使用一对亥姆霍兹线圈(直径120厘米)来产生包围整个泵的均匀磁场。使用20℃的冷却水对分子泵持续进行冷却;分子泵的控制器会自动调整电机电流,保持转子以恒定转速运行。
使用安装于分子泵口的红外温度计测量被测试分子泵的转子温度。使用连接到分子泵外壳的PT100热电阻测量定子的温度。测试过程试验期间,涡轮泵以满转速持续运行。初始的磁场设置为1mT,泵在该磁场下运行12个小时以稳定转子温度;然后关闭磁场,再运行12个小时以使转子降温;然后再分别把磁场设置为2mT,按照前面的步骤继续进行测试,直至磁场增加到7mT。
当磁场逐步增加后,被测分子泵转子的平衡温度也随之上升,当磁场强度为7mT时,平衡温度上升到100摄氏度左右(分子泵的很大允许温度为120度)。
另外,使用该测试平台测试了另一台其它品牌的分子泵,一系列的对比测试表明,分子泵在相同的磁场条件下转子的平衡温度明显较低(5mT时,低大约40度)。
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通用的沉积技术有化学气相淀积(CVD)、蒸发和溅射PVD。一般来说,其中还要夹杂低温(≤500℃)退火工艺等热处理工艺,用以增进金属层和半导体之间的低电阻接触、消除内应力等。设备运行过程中需要高洁净的真空环境,一般采用以磁悬浮分子泵为主的无油真空系统。
刻蚀是用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要材料的过程。刻蚀的基本目标是在涂胶的硅片上正确地掩膜图形。现代化的干法刻蚀设备包括复杂的机械、电气和真空系统,同时配有自动化的刻蚀终点检测和控制装置。刻蚀应用工况复杂,清洁性差,充入特种气体种类繁多,因此需要特殊处理的干泵和磁悬浮分子泵。
离子注入设备:离子注入是指在真空环境下,当离子束射向固体材料时,受到固体材料的抵抗而速度慢慢减低下来,并很终停留在固体材料中的现象。离子注入是半导体表面附近区域进行掺杂的主要技术,其目的是改变半导体的载流子浓度和导电类型。离子注入机是集成电路制造工序中的关键设备,需要高清洁的真空环境,以保证离子掺杂浓度和剂量的准确性。
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