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超高真空抽气系统中的氢分压突然升高

1.泵体未经烘烤除气；

低于150℃长时间烘烤去气；

2.冷却水温过高或冷却系统故障使泵温升高。

冷却水温应低于14℃，运转中保证冷却系统正常工作。

油蒸汽返流

1.突然停电或停泵时，泵内没有及时充入干燥气体；

在泵转数降至很大转速的一半时，应及时充入干燥气体；

2.前级泵返流严重。

降低前级返油率。

谱拓不仅拥有全系列的混合轴承及全磁悬浮涡轮分子泵，同时还拥有各种旋片泵，干泵，谱拓泵，多级谱拓泵，氦质谱检漏仪，真空计，质谱仪等产品以及真空管件和系统解决方案。推出了一款全新涡轮分子泵TwisTorr305，它继承了TwisTorr系列分子泵超高真空、高压缩比、全无油润滑等优点，

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视频作者：广州潽拓光电科技有限公司

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半导体产业链IC制造行业属于典型的技术密集型行业，产品技术含量非常高，同时对配套产业要求较高，其中就包括真空设备配套产业。真空设备（真空阀、真空泵、真空腔体及管道等）是半导体各工艺制程环节必备的通用设备，广泛应用于芯片生产制造过程。  半导体制造设备及工艺流程半导体器件的生产制造工艺极其复杂，需要在高纯度硅片上执行一系列精密的物理或者化学操作，例如掺入相应的其它元素、形成多种金属薄膜和绝缘膜、进行表面的刻蚀处理等。

这些复杂的生产制造工艺都需要在分子泵维持的高真空环境下进行，而且对真空系统和真空设备的洁净度也有着很高的要求。分子泵在半导体设备中的应用.在半导体生产制造工艺中，分子泵广泛应用于光刻机、薄膜沉积设备、刻蚀设备、离子注入机等关键设备。光刻机光刻机是生产大规模集成电路的设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握，因此光刻机价格昂贵。

光刻机光刻过程必须在高真空环境中实现，原因是极紫外光很娇贵，在空气中容易损耗。同时，在光刻过程中，设备的动作时间误差以皮秒计，这对磁悬浮分子泵的振动值要求极高。（注：皮秒=兆分之一秒）薄膜沉积指在晶圆表面生成多种薄膜，这些薄膜可以是绝缘体、半导体或导体。它们由不同的材料组成，是使用多种工艺生长或沉积的。

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我国是世界很大的半导体消费市场，但产业链整体价值水平较低，尤其是关键材料与设备和零部件方面，存在较大国外品牌依赖。例如，薄膜沉积、刻蚀、离子注入等半导体制造中关键工艺过程部件——磁悬浮分子泵，长期被国外垄断。面对“卡脖子”问题，公司积极响应国家需求，承担科技部《极大规模集成电路制造技术及成套工艺》专项中“磁悬浮分子泵系列产品开发与产业化”项目，多项关键技术，于2011年成功研制国内台磁悬浮分子泵，打破国外产品垄断。

公司研制出新一代系列一体磁悬浮分子泵，以其优越的性能，已广泛应用于工业过程、镀膜等领域，为半导体零部件国产化注入新活力。未来，公司将继续聚焦半导体产业发展需求，全力突破“卡脖子”技术难题，推动半导体设备零部件国产化，为中国集成电路发展持续贡献力量。

现今，越来越多地改用大型涡轮分子泵或低温泵来代替油扩散泵系统，以防止油蒸汽的污染。因此，很近十几年来，涡轮分子泵在国内、外都得到了显著的改进和发展。涡轮分子泵与油扩散泵相比具有启动快,有机蒸汽污染少和极限真空高等特点.因此在氦质谱检漏仪中采用分子泵作为高真空系统,即使检漏仪不用液氮冷阱,质谱室也不致严重沾污,并能保持较低的本底或杂声.这有利于氦质谱检漏仪的灵敏度和稳定性的提高,并且延长离子源的使用寿命.

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